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    市場應用

    Market application

    半導體集成電路

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    簡介

    PicoMaster光刻機,可以在高對比度的正膠上加工出小于300納米分辨率的特征結構。

    要求和結果

    圖1:200納米間距的溝槽結構,深度約880nm
    圖2:不對稱光柵結構。結構1:L218P535;結構2:L278P635

    樣品展示

    簡介

    PicoMaster 系統支持頂側對準。在Simax特有的輕便型光學模組中集成有520萬像素的單色攝像頭,測量分辨率100納米。 最終的對準誤差不僅取決于測量分辨率,也取決于對準標記的質量、溫度的穩定性,以及系統的校正。

    要求和結果

    對準誤差可以小于250納米,但是必須滿足一定的測量要求:
    ? 正確的系統校正
    ? 系統和基底的溫度的穩定性
    ? 高質量的對準標記,最小尺寸50微米
    ? 第一層的對準標識同樣是由PicoMaster 系統加工
    利用游標尺結構進行頂側對準測試,對準精度小于100納米

    樣品展示

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